如何解決半導體圓晶生產(chǎn)過程中清潔效果不一致出現(xiàn)的問題

半導體間歇式清洗設備清洗液成分配比不穩(wěn)定，清洗效果不一致。

我在半導體晶圓制造現(xiàn)場，但我在清潔過程中遇到了一些問題。

在批量清洗中，有些成分會蒸發(fā)，尤其是在液體達到高溫的情況下。

但由于是液體，易蒸發(fā)，易起泡，普通的計量泵會造成氣鎖。

它還要求定量、清潔和耐腐蝕。

我們推薦具有高分配性能并且每次注射能夠注入少量 1 mL 的 CFD 型泵。

在這種情況下，我們推薦每次注射可注入少量 1 mL 的“CFD 型泵"。

CFD 型泵具有氣泡容易排出的結(jié)構(gòu)，因此氣泡不會留在泵內(nèi)。

此外，接液部采用氟樹脂制成，是一款清潔度高、耐腐蝕的泵。此外，CFD-1T-B 型號具有 1 mL/shot 的出色分辨率，適合保持化學溶液的成分比恒定。基于以上原因，我們認為“CFD型泵"可以解決半導體間歇式清洗設備的清洗液問題。請考慮這個機會。

1 mL 1 shot，高精度控制晶圓清洗液濃度化學品補給泵CFD

• 所有接液部件均由氟樹脂制成，與酸、堿、氫等化學品兼容

• 行程長度可輕松調(diào)節(jié)，每次最多可排放2.7 mL

• 泄漏傳感器是標準配置 設備